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      为了进一步提高对长三角电子制造企业的技术服务能力，由华东实验室建设的扫描电镜实验室目前正式完成安装、调试工作，标志着华东实验室理化分析部扫描电镜实验室正式建立。

      作为材料检测和电子产品重要的失效分析检测手段，该扫描电镜主要用于观察材料表面的微细形貌、断口及内部组织，利用平台搭载的能谱系统可以对材料表面微区成分进行定性和定量分析。

      主要用途如下：

      1、电子元器件、电路板（PCB）、陶瓷、金属、混凝土、矿物、生物、纤维和高分子等无机或有机固体材料的微观形貌观察；

      2、微型加工的表征和分析集成电路图形及断面尺寸，PN结位置，结区缺陷等；

      3、对固体材料的表面镀层进行分析和镀层厚度的检测；

      4、结合X射线能谱仪进行材料表面微区成分的定性和定量分析，对材料表面物质进行面、线、点分析。

      主要技术指标

      设备名称：SEM&EDS
      型号：Inspect F50&Apollo xp
      高电压下：≤1.0nm@30kV(SE)或≤1.5nm@15kV(SE)；
      低电压下：≤3.0nm@1kV(SE)。
      背散射电子像：≤2.5nm@30KV（BSE）。
      电子枪：Schottky型热场发射电子枪。
      加速电压： 0.2~30kV。
      放大倍数： 20倍~50万倍。
      X射线能谱仪的元素分析范围：Be4～U92?Be4～U92
      能量分辨率(Mn-Ka)：优于129eV

（分析中心）