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7月4日上午，国际电子电气工程师协会（IEEE）电子器件学会（EDS）广州分会2014年度第二次暨第十届研讨会（Mini-colloquium）在我所举行。本次研讨会的主题为“薄膜晶体管（TFT）及其可靠性”，重点关注大面阵显示器件薄膜晶体管的结构、工艺及可靠性动态。会议邀请了美国德州农工大学（TAMU）的Yue Kuo（郭育）教授、电子五所刘远博士开展技术报告，交流最新的科研成果。本次参会人数40人，主要来自我所科技人员、华南理工大学、广东工业大学教师和研究生，互动积极。

郭育教授的报告题目为“大面阵TFT量产技术——现状及未来”，他是IEEE、ECS等国际学会的Fellow、获过电化学学会的电子和光子学奖、德州农工大学的杰出研究和创新奖，10项IBM技术奖等荣誉，是TFT研究的先驱和领袖人物。李教授的报告深入浅出地论述了TFT的研究历程、材料、物理和工艺，发展动态及其应用领域。这对我们了解先进的显示器件有很好的帮助作用。

我所刘远博士的报告题目为“铟锌氧化物薄膜晶体管（IZO TFT）的低频噪声及其可靠性应用”，他聚焦于IZO TFT的静电、辐照以及噪声测试表征等成果。他已在顶级期刊IEEE Electron Device Letters上发表论文多篇，系统里研究了TFT的失效物理机制。

借助IEEE 这个平台，我所与国外的知名教授或研究人员建立了定期沟通的渠道，了解了国外进行的器件可靠性研究动态，促进了我所在该方面的研究进步。(杨少华供稿)

（重点实验室）